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據(jù)悉，光刻機(jī)作為半導(dǎo)體設(shè)備三大件之一，是人類文明智慧的結(jié)晶，被譽(yù)為“半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”。

公開資料顯示，光刻機(jī)是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的核心設(shè)備，技術(shù)含量、價(jià)值含量極高。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩模版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上，經(jīng)過十余代的發(fā)展迭代，目前最先進(jìn)光刻機(jī)單次曝光可以做到低于5nm的分辨率。

根據(jù)全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模估算，2021年全球光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模為181億美元，預(yù)計(jì)2022年將達(dá)到201億美元。全球光刻機(jī)前三大廠商的市場(chǎng)份額占比達(dá)90%以上，根據(jù)前三大廠商的銷售數(shù)據(jù)顯示，2015-2021年,全球光刻機(jī)銷售量總體增長(zhǎng)，2021年達(dá)478臺(tái)。

光刻機(jī)市場(chǎng)集中度高，ASML、Nikon、Canon市場(chǎng)占有率超過90%，其中ASML由于其技術(shù)領(lǐng)先，壟斷了EUV光刻機(jī)，獨(dú)占75%的市場(chǎng)份額，Nikon與Canon分別占據(jù)13%和6%的市場(chǎng)份額。ASML的光刻機(jī)技術(shù)在全球處于絕對(duì)領(lǐng)先地位，EUV領(lǐng)域ASML市占率為100%，ArFi、ArF領(lǐng)域市占率分別高達(dá)96%、88%。

國(guó)內(nèi)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)起步較晚，與海外具體差距明顯。1977年，清華大學(xué)精密儀器系、中科院光電所、中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所（簡(jiǎn)稱中電科45所）等先后投入研制光刻機(jī)。我國(guó)也時(shí)隔近十年，研制出了具有一定代表意義的光刻機(jī)——接觸式光刻機(jī)GK-3型半自動(dòng)光刻機(jī)。

光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈主要包括上游設(shè)備及配套材料、中游光刻機(jī)系統(tǒng)集成和生產(chǎn)及下游光刻機(jī)應(yīng)用三大環(huán)節(jié)，技術(shù)極為復(fù)雜，涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)，部分機(jī)型所需的零部件更是多達(dá)數(shù)十萬(wàn)件，因此光刻機(jī)的生產(chǎn)通常涉及上千家供應(yīng)商。

其中，光刻機(jī)上游國(guó)內(nèi)代表企業(yè)包括福晶科技、奧普光電、南大光電、容大感光、華潤(rùn)微、精測(cè)電子、芯源微、菲利華、清溢光電、茂萊光學(xué)、美?？萍嫉?/b>。

此外，據(jù)財(cái)聯(lián)社不完全整理，近期在互動(dòng)易平臺(tái)回復(fù)光刻機(jī)相關(guān)業(yè)務(wù)的上市公司包括賽微電子、大族激光、炬光科技、張江高科、聯(lián)合光電、晶瑞電材、英唐智控、美迪凱、同興達(dá)等。